Tecnologia ultrasonica dello spruzzo per il rivestimento della pila solare
La tecnologia ultrasonica dello spruzzo è utilizzata in entrambi le applicazioni del silicio cristallino fotovoltaico (c-si) e del film sottile. La tecnologia ultrasonica dello spruzzo una volta confrontata al vapore chimico la tecnologia (CVD), farfugliante, rivestimento della rotazione, rotola il rivestimento e le tecniche del rivestimento della nebbia possono essere mezzi più redditizi di deposito delle emulsioni sottili sulle pile solari. dovuto l'alta uniformità delle goccioline atomizzate e del loro a bassa velocità durante il processo di rivestimento, altamente uniforme, strati spessi del micron può essere formato sul c-si e sulle cellule solari sottili del film. I benefici aggiunti di spreco o di vaporizzazione eccessiva minimo possono anche condurre al risparmio materiale significativo.
La tecnologia ultrasonica dello spruzzo è usata con le seguenti chimiche:
Dopant, assorbitori, amplificatori, prodotti organici, ecc.
Dopant acidi borici
Assorbitori del cloruro del cadmio (CdTe)
Solfuro di cadmio (CD) – strato dell'amplificatore utilizzato in CIGS, cellule di CdTe
Assorbitori di rame del seleniuro del gallio dell'indio (CIGS o CIS)
Assorbitori di rame del solfuro della latta dello zinco (CZTS)
La tintura ha sensibilizzato le pile solari organiche (DSC, DSSC o DYSC)
P3HT
PEDOT
PCBM
Dopant a base d'acido fosforici nella formazione dell'emettitore
Punti di Quantum (QD)
Lo spruzzo ultrasonico di è stato usato con successo per spruzzare vari punti di Quantum. Sia i film di ZnO che i punti di Quantum dei CD sono stati preparati facendo uso delle tecniche ultrasoniche del deposito di pirolisi dello spruzzo ad una frazione del costo di CVD e metodi farfugliare.
Ossidi conduttivi trasparenti (TCO)
Diossido della latta (SnO2)
Ossido di stagno dell'indio (ITO)
Ossido di zinco (ZnO) come nanowires nelle applicazioni di DSC
Nanotubes del carbonio (CNT)
Nanowires d'argento (AGNW)
Graphene
Rivestimenti di antiriflessione (AR)
SiO2
TiO2
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